kas ir ALD?
ALD ir “atomu slāņa nogulsnēšanās” saīsinājums, kas portugāļu valodā nozīmē “nogulsnēšanās ar atomu slāni”. Tas ir smalku materiālu nogulsnēšanās paņēmiens substrātos, kas ļauj precīzi kontrolēt nogulsnēto slāņu biezumu un sastāvu.
Kā ald?
ALD ir balstīta uz gāzes fāzes ķīmiskajām reakcijām, kur reaģenti secīgi ievada nogulsnēšanas sistēmā. Katrs reaģents reaģē ar substrāta virsmu, veidojot atomu slāni. Pēc reakcijas tiek noņemts pārmērīgs reaģents un ievieš nākamais reaģents, atkārtojot procesu, līdz tiek sasniegts vēlamais biezums.
ALD lietojumprogrammas
ALD tiek plaši izmantots pusvadītāju nozarē, ražojot progresīvas elektroniskas ierīces, piemēram, lauka efektu tranzistorus (FET), augsta blīvuma kondensatorus un gaismas diodes (LED). Turklāt ALD izmanto arī saules bateriju, bateriju, sensoru, aizsargājošu pārklājumu un daudzu citu pielietojumu ražošanā.
ALD priekšrocības
ALD piedāvā vairākas priekšrocības, salīdzinot ar citām smalko filmu nogulsnēšanas metodēm. Dažas no galvenajām priekšrocībām ir:
| precīza slāņu biezuma un sastāva kontrole | augstas sākotnējās izmaksas |
| augstas atbilstības | ilgāks nogulsnēšanas laiks, salīdzinot ar citām metodēm |
| augsta vienveidība | Organisko materiālu nogulsnēšanās ierobežojumi |
| zema nogulsnēšanās temperatūra | Nepieciešamas specializētas reaģentu gāzes |
| Savietojamība ar visdažādākajiem materiāliem un substrātiem |